Вакуумно-технологическая установка предназначена для двустороннего магнетронного нанесения на керамические, кремниевые и любые плоские подложки (толщина не более 30 мм) диаметром до 150 мм (максимальная...
Серия кластерного вакуумного оборудования на основе уникального источника энергосберегающего источника плазмы высокой плотности, которая реализует процессы вакуумного ионно-плазменного нанесения, травления...
Серия вакуумного высокотехнологического оборудования, предназначенная для нанесения тонких пленок в вакууме на крупногабаритные и объемные изделия.На установке обеспечиваются следующие процессы:• Нанесение...
Установка поштучной обработкой пластин до 150 мм снабжена генератором плазмы высокой плотности (патент РФ №2 171 555) со своим ВЧ-генератором возбуждения плазмы (частотой 13,56 МГц) и специальным столом...
Автоматизированная установка магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские подложки (толщина не более 30 мм) диаметром до 150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150x350мм).Магнетроны...
Вакуумно-технологическая установка предназначена для магнетронного нанесения упрочняющих, коррозийно-стойких, декоративных покрытий на изделия, такие как лопатки турбин, инструменты, корпуса и прочее.Установка...
Вакуумно-технологическая установка предназначена для двустороннего магнетронного нанесения на керамические, кремниевые и любые плоские подложки (толщина не более 30 мм) диаметром до 150 мм (максимальная...
Вакуумно-технологическая установка предназначена для травления тонких слоев резистивных сплавов, металлов и диэлектриков на любых плоских (толщина не более 30 мм) подложках диаметром до 150 мм (максимальная...
Автоматизированная установка магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и другие плоские подложки (толщина не более 30 мм) диаметром до 100 мм.Мишени...
Установка полностью автоматизированного управления с поштучной обработкой пластин диаметром до 200 мм снабжена генератором плазмы высокой плотности (патент РФ № 2 171 555) со своим ВЧ-генератором возбуждения...
Вакуумно-технологическая установка предназначена для магнетронного нанесения на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки диаметром до 150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых...
Вакуумно-технологическая установка предназначена для плазмохимического, ионно-химического и ионного травления тонких пленок в вакууме на любых плоских (толщина не более 30 мм) подложках диаметром до 250...
Автоматизированная установка магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и другие плоские подложки (толщина не более 30 мм) диаметром до 100 мм. Мишени...